内外皆精密｜半导体行业氯硅烷分析应用文集重磅发布

2025年09月04日 17:31:41来源：珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司

　　在半导体制造过程中，电子气体的纯度直接影响芯片的良率与器件性能。随着先进制程节点的不断推进，对气体纯度的要求也日益严格，杂质控制需达到ppb(十亿分之一)乃至ppt(万亿分之一)级别。其中，氯硅烷类化合物(如三氯氢硅、四氯化硅等)以及高纯载气(如He、H?、Ar、N?、Cl?、HCl等)作为关键工艺气体，广泛应用于多晶硅、单晶硅及薄膜沉积等环节。

　　然而，氯硅烷在生产、储存及使用过程中容易产生多种杂质，如磷化氢、氧、氮、碳氢化合物等，这些杂质对最终材料的电学性能与稳定性产生显著影响。因此，建立一套稳定、灵敏、准确的分析方法，实现对氯硅烷及其工艺气体中杂质的高效检测，已成为提升产品质量与工艺控制水平的关键环节。

　　珀金埃尔默基于多年在半导体材料检测领域的技术积累，结合先进的气相色谱与质谱平台，开发出适用于多种气体基质的高灵敏度检测方法，助力企业实现高纯气体与氯硅烷工艺的全面质量控制。

文集目录

　　 高纯气体中的杂质检测

　　 1 　高纯He中微量H?、O?、Ar、N?、CH?、CO、CO?杂质的测定

　　 2 　高纯H?中微量O?、Ar、N?、CH?、CO、CO?杂质的测定

　　 3 　高纯Ar中微量H?、N?、CH?、CO、CO?杂质的测定

　　 4 　高纯N?中微量H?、O?、Ar、CH?、CO、CO?杂质的测定

　　 5 　高纯HCl中微量H?、O?、Ar、CH?、CO、CO?杂质的测定

　　 6 　高纯Cl?中微量H?、O?、Ar、CH?、CO、CO?杂质的测定

　　 氯硅烷及相关工艺检测应用

　　 1 　工业用硅烷气体中微量二氯二氢硅、三氯氢硅、四氯化硅杂质的测定

　　 2 　氯硅烷工艺中回收氢和还原尾气中氯硅烷组分的测定

　　 3 　回收氢气中微量磷化氢的测定

　　 4 　氯硅烷工艺回收氢气中的O?和N?测定

　　 5 　三氯氢硅的组分测定

　　 6 　氯硅烷中碳含量测定

　　 7 　高纯三氟化氮中微量杂质气体检测

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珀金埃尔默半导体行业氯硅烷分析应用文集

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